在图b中用曲线绘出该阶段的岩溶基准面，并说明理由。

绘图如下。

理由：溶洞底部是该阶段溶蚀作用所能达到的最低界面。

根据材料可知，岩溶基准面是溶蚀作用地下深处所能达到的最低界面，图b中溶洞底部是该阶段溶蚀作用所能达到的最低界面，即图中实线所处的位置即为岩溶基准面，绘图如下：

简述该地岩溶洞穴呈横向发育的条件。

地层水平发育，（地下水横向流动）；岩溶基准面分布相对稳定（地壳运动相对稳定）。

由材料可知，图中的岩层水平发育，水平地层为地下水提供稳定的横向流动通道，溶蚀作用沿水平方向扩展；地壳运动相对稳定，岩溶基准面长期未发生明显升降，溶蚀作用集中在此深度持续进行；岩溶洞穴主要依赖流水溶蚀，地下水的流向与岩溶洞穴的走向有关，地下水在水平地层中沿裂隙或孔隙横向流动，优先溶蚀横向展布的碳酸盐岩层，导致岩溶洞穴横向发展。

描述该地岩溶洞穴层状结构的形成过程。

地表水沿裂隙等通道向下渗流；地下水溶蚀水平发育的碳酸盐岩地层形成大致横向的岩溶洞穴；地下水继续向下溶蚀，岩溶基准面下降，形成新的横向岩溶洞穴，进而构成岩溶洞穴层状结构。

地表的岩石在风化作用下岩石表面出现裂隙，再加上岩石的节理发育，为地表水下移提供了通道，地表水沿碳酸盐岩裂隙、节理等通道向下渗流，通过溶蚀作用逐渐扩大裂隙；地下水在地层中横向流动，优先溶蚀岩石薄弱部位，形成横向延伸的岩溶洞穴系统；构造抬升导致岩溶基准面下降，原横向洞穴脱离地下水活跃带，成为干洞；地下水向更深层渗流，沿新的裂隙或原有垂向通道继续溶蚀，形成新的横向洞穴层，并逐渐向下扩展；不同阶段的地壳抬升与溶蚀作用叠加，使洞穴系统呈现多层结构，各层洞穴大致平行于当时的潜水面或岩溶基准面。